| 제목 | 내년3월부터 중국하이웨이심사제도 실시 | 2011-11-03 | |
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한ㆍ중 지재권 분야 교류ㆍ협력 전면 확대 1992년 11월 한국과 중국이 첫 한ㆍ중 특허청장 회담을 개최한 이후 20년을 맞아 지재권 분야 교류ㆍ협력이 전면 확대된다. 특허청은 2일 중국 베이징에서 연 제17차 한ㆍ중 특허청장 회담에서 한ㆍ중 특허심사 하이웨이(PPH) 및 국제특허심사 하이웨이(PCT-PPH)를 내년 3월 1일부터 실시 키로 합의하는 양해각서를 체결했다고 밝혔다. 이수원 특허청장은 이 자리에서 "중국의 지난해 특허출원은 약 39만건으로 일본(34만건)을 추월, 특허분야에서도 양적으로 G2로 부상한 만큼 지재권 분야에서도 중국시장이 중요하게 됐다"면서 "양국간 PPH를 통해 중국에서 우리 기업이 특허등록을 보다 빠르고 손쉽게 받을 수 있게 됐다"고 말했다. 이번 청장회담에서 양국 특허청은 특허심사, 정보화, 교육, 디자인 등에서 분야별 전문가 협의체를 지속적으로 운영, 양국 지재권제도의 조화를 계속 모색해 나가기로 했으며 지재권 전문가 상호 파견 등을 통해 양국간 교류, 협력을 확대ㆍ강화하기로 합의했다. 특히 양청은 국가지식재산전략이 효율적으로 수립 시행될 수 있도록 지난해 5월 한ㆍ중 정상회담 때 합의된 국가지식재산 전략 민간협력 추진을 위해 양국 민간 연구기관간 공동연구도 추진키로 했다. 이수원 청장은 이번 회담 기간인 3일 중국 인민대와 지재권분야 공동연구, 교육 훈련 분야 협력을 위한 MOU도 체결한다. 또 중국 최고인민법원(우리의 대법원에 해당)의 지재권 총괄 부원장과 면담을 갖고, 외국기업의 중국내 지재권 보호 동향 및 한국기업의 애로사항에 대해 의견을 나눌 예정이다. |
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